俄罗斯光刻机亮相 武汉和深圳召开

俄罗斯成功自主研发了首台光刻机，目前正处在测试阶段，这是俄罗斯在半导体技术自给自足方面的重要一步。该国工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克透露，这台国产光刻机能够制造350纳米级别的芯片，它作为泽廖诺格勒技术生产线的组成部分正在进行功能验证。全球范围内，高级光刻机市场主要由荷兰的ASML、日本的

俄罗斯成功自主研发了首台光刻机，目前正处在测试阶段，这是俄罗斯在半导体技术自给自足方面的重要一步。

该国工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克透露，这台国产光刻机能够制造350纳米级别的芯片，它作为泽廖诺格勒技术生产线的组成部分正在进行功能验证。

全球范围内，高级光刻机市场主要由荷兰的ASML、日本的佳能和尼康等几家公司主导。

相比之下，当前最先进的技术已能实现2-3纳米的芯片生产，但350纳米技术依旧在汽车制造、能源供应及电信行业等领域扮演着重要角色。

尤其对于正面临欧美严格技术制裁的俄罗斯半导体行业，这一自主研发成果不仅是技术突破的象征，也预示着俄罗斯朝着减少对外依赖、增强本土半导体产业自主性和竞争力的目标迈出了实质性的步伐。

另外，关注芯片技术进步的朋友们请注意，芯片低功耗设计研讨会即将分别在上海、武汉和深圳召开，感兴趣的参与者请留意报名截止时间，以免错过这些交流学习的机会。