芯源微2020年净利预增60.54%到81.04%

芯源微2020年净利预增60.54%到81.04%三生三世十里桃花网盘 ，1月16日，芯源微发布2020年年度业绩预增公告，该公司预计 2020 年年度实现归属于母公司所有者的净利润为 4,700 万元到 5,300 万元，与上年同期相比，将增加1,772.41 万元到 2,372.41 万元，同比增

，1月16日，芯源微发布2020年年度业绩预增公告，该公司预计 2020 年年度实现归属于母公司所有者的净利润为 4,700 万元到 5,300 万元，与上年同期相比，将增加1,772.41 万元到 2,372.41 万元，同比增加60.54 %到81.04 %左右。

同时，芯源微归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润为 1,150 万元到 1,700 万元，与上年同期相比，将减少 343.27 万元到增加 206.73 万元，同比减少 22.99 %到增加 13.84 %左右。

对于此次业绩变动的原因，芯源微表示，报告期内，半导体行业景气度持续向好，公司积极把握市场机遇，加大市场开拓力度，公司产品订单呈快速上升状态，2020年全年营业收入同比 2019年取得大幅增长。同时，报告期内，公司收到地方政府给予的上市补贴 1,800 万元，利用闲置资金购买理财产品取得投资收益 1,108.65 万元，对公司本期的财务报表产生了一定的积极影响。

值得关注的是，不久前，芯源微在投资者调研时表示，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能等国际品牌以及国内的上海微电子(SMEE)的光刻机联机应用。

在谈及芯源微前道涂胶显影机Track与国际光刻机联机是否还有技术壁垒时，芯源微称，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能等国际品牌以及国内的上 海微电子（SMEE）的光刻机联机应用。

芯源微表示，涂胶显影机的在Iline、KrF、向ArF等技术升级的过程中，主要技术难点在于涂胶显影机结构复杂，运行部件多。研发升级在技术上有很大的跨度，主要体现在颗粒污染物的控制方面，例如烘烤精度、多腔体的一致性及均匀性、不同光刻胶的涂胶显影工艺精细化控制，以及设备整体颗粒污染物控制等。

天眼查信息显示，芯源微成立于2002年，是由中科院沈阳自动化研究所创建的国家高新技术企业，专业从事半导体生产设备的研发、生产、销售与服务，致力于为客户提供半导体装备与工艺整体解决方案。

据悉，芯源微目前订单比较饱满，排产工时较往年有大幅增加。芯源微指出，公司现有的厂区已经是满负荷运转，同时新厂房也在建设当中，按照计划将于2021年4季度投入使用，届时对公司产能提升会起到 非常大的作用。

（校对/Lee）