在手订单充足 芯源微2020年营收净利实现双增长
2月24日,芯源微发布业绩快报称,2020年公司实现营业总收入3.29亿元,同比增长54.30%;实现归属于母公司所有者的净利润4,882.86万元,同比增长66.79%;实现归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润1,287.51万元,同比下降13.78%。
关于经营业绩变动的主要原因,芯源微表示,报告期内半导体行业景气度持续向好,公司在手订单充足,收入规模持续增长。2020 年公司实现营业收入及归属于母公司所有者的净利润较上年同期有较大增长。同时,公司持续加大研发投入和技术人员储备等导致期间费用较上年同期增长,从而归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润较上年同期有所下降。
另外,2020年度,芯源微的总资产同比增长 32.67%,芯源微称之公司业务规模增长导致存货、应收账款增加,以及公司新厂房建设导致在建工程增加。
资料显示,芯源微成立于2002年,是由中科院沈阳自动化研究所创建的国家高新技术企业,专业从事半导体生产设备的研发、生产、销售与服务,致力于为客户提供半导体装备与工艺整体解决方案。
不久前,芯源微在投资者调研时表示,公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证,可以与包括ASML、佳能等国际品牌以及国内的上海微电子(SMEE)的光刻机联机应用。
在谈及芯源微前道涂胶显影机Track与国际光刻机联机是否还有技术壁垒时,芯源微称,公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证,可以与包括ASML、佳能等国际品牌以及国内的上 海微电子(SMEE)的光刻机联机应用。
芯源微表示,涂胶显影机的在Iline、KrF、向ArF等技术升级的过程中,主要技术难点在于涂胶显影机结构复杂,运行部件多。研发升级在技术上有很大的跨度,主要体现在颗粒污染物的控制方面,例如烘烤精度、多腔体的一致性及均匀性、不同光刻胶的涂胶显影工艺精细化控制,以及设备整体颗粒污染物控制等。(校对/Lee)
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- 编辑:郭晓刚
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