上海新阳购买ASML XT 1900 Gi型光刻机 用于研发28nm高端光刻胶

上海新阳购买ASML XT 1900 Gi型光刻机 用于研发28nm高端光刻胶九城茶坊 3月11日，上海新阳发布公告称，近日由芯刻微公司委托盛吉盛（宁波）半导体材料有限公司（以下简称“盛吉盛”）代理投标，成功中标，购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的

3月11日，上海新阳发布公告称，近日由芯刻微公司委托盛吉盛（宁波）半导体材料有限公司（以下简称“盛吉盛”）代理投标，成功中标，购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。

3月11日，芯刻微公司向盛吉盛支付10%首期货款购入该光刻机，剩余90%六个月内付清。后续公司将启动设备的运输及相关安装调试等工作。

据了解，上海新阳于2020年8月与芯刻微、超成科技签署了《增资及股权转让协议》。增资及股权转让完成后，公司持有芯刻微38%的股权，超成科技持有芯刻微62%的股权，芯刻微公司未来进行ArF湿法光刻胶的研发。

集成电路制造用ArF湿法光刻胶产品技术要求高、投资需求大，上海新阳为加速集成电路制造用高端光刻胶全品类的国产化进程，减少上市公司业绩压力，通过参股子公司芯刻微进行ArF 湿法光刻胶的研发，并与协议各方承诺未来通过向上市公司进行股权转让或技术转让等方式避免可能的同业竞争。

上海新阳表示，公司作为国内集成电路制造关键工艺材料供应商，自立项进行光刻胶项目研发以来，将突破集成电路高端光刻胶国外垄断，实现集成电路高端光刻胶材料的国产化作为发展目标，在ArF干法、KrF厚膜及I线光刻胶方面已有技术与产品的突破。通过子公司芯刻微开展的ArF湿法光刻胶项目研发也已引进了核心技术专家团队，为ArF湿法光刻胶项目的开发提供了技术保障，现公司采购的ASML浸没式光刻机设备是对公司ArF湿法光刻胶技术先进性的设备保障，对加快公司集成电路制造用光刻胶产品研发项目进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力。

不过，上海新阳也称，本次购买的光刻机尚须经过运输、装机、调试及投入相关配套设施，若以上环节出现工作疏漏或失误则存在造成所购买的光刻机投入使用的过程较长甚至无法投入使用的风险。同时，光刻胶产品在集成电路材料中技术难度大，质量要求最高，开发周期长，且核心技术及原材料几乎被国外厂商所垄断。因此，存在着研发失败和研发计划滞后的风险。（校对/Lee）