科普篇|关于电子行业超纯水你应该知道这些
超纯水是为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,其电阻率大于18 MΩ.cm,或接近18.3MΩ.cm(25℃)。那么关于电子行业超纯水你又知道哪些呢?下面我们一起看看吧。
科普一:电子行业为什么要用到超纯水设备?
超纯水在以电路板为主的电子元器件生产中的作用越来越重要,超纯水的质量已成为影响电路板、电子元器件产品质量、生产产量和生产成本的重要因素之一。在电子元器件的生产中,超纯水主要用于清洗水和用于配制各种溶液、浆液,不同的电子元器件在生产中对纯水和水质的要求是不同的。
在晶体管和集成电路的生产中,超纯水主要用于清洗硅片,少量用于制备药液、硅氧化的水蒸气源、一些设备的冷却水、制备电镀液等。集成电路生产中80%的工序都需要用高纯水来清洗硅片,水质的好坏与集成电路产品的质量和生产量有很大关系。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜产生耐压,重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结电压降低,III族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性变差,V族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性变差。会使P型半导体特性变坏,水中的细菌经过高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片的局部区域变成N型硅而导致器件性能变坏,水中的微粒(包括细菌)如吸附在硅片表面,就会造成电路短路或特性变差。
电子超纯水设备(www.ediwater.cn)是为了保证电子产品的质量安全,促进电子行业的健康运行,电子超纯水设备用于集成电路生产中高纯水清洗硅片、半导体材料、晶圆材料的生产、加工。
科普二:电子行业超纯水的等级
目前,我国电子工业部把电子级水质技术分为四个行业等级,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、12MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示器、高精度电路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模的集成电路都需要使用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求就越高。
科普三:电子行业超纯水制取工艺
1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
3、采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备进行搭配的方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
4、采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备及抛光混床的组合方式,其基本工艺流程为:预处理过滤器→保安(精密)过滤器→RO反渗透→EDI→氮封水箱→抛光混床→新型循环管道→用水点(莱特莱德新工艺)
科普四:超纯水制备工艺特点
第1种采用离子交换树脂其优点在于初投资少,占用的地方少,但缺点就是需要经常进行离子再生,耗费大量酸碱,而且对环境有一定的破坏。
第2种采用反渗透作为预处理再配上离子交换设备,其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高,但离子设备再生周期相对要长,耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还是有一定的破坏性。
第3种采用反渗透作预处理再配上电去离子(EDI)装置,对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。
第4种采用反渗透作预处理再配上电去离子(EDI)装置、氮封水箱及抛光混床,其中,氮封水箱可以防止CO2等其它物质溶入水中影响水质,保证水箱内的水不受二次污染而导致水质下降。而抛光混床采用无化学析出的核子级树脂,去除纯水中残余的微量带电离子及弱电解质,使水质达到18MΩ.cm以上,新型循环管道,保证水质不被污染。这是目前非常环保的超纯水制取工艺,不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水,对环境没什么破坏性。
科普五:电子行业超纯水的具体应用领域
1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水。
2、超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水。
3、实验室和中试车间用超纯水。
4、汽车、家电表面抛光处理。
5、光电子产品。
6、其他高科技精微产品。
科普六:关于超纯水的标准有哪些?
美国ASTM D5127电子半导体业用纯水水质TypeE-1.2
中国国家电子级超纯水标准GBT11446.1-1997EW-Ⅰ标准
以上,就是电子行业对超纯水的一些科普,希望能对大家有所帮助。随着超纯水生产技术的不断提高,超纯水设备的应用也越来越多,在电厂化学水处理、食品、饮料、饮用水制备、海水淡化等方面都有重要应用。
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- 编辑:郭晓刚
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